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及时处理晶圆抛光机故障是有效保障加工精度的关键
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及时处理晶圆抛光机故障是有效保障加工精度的关键

在半导体芯片加工工序中，精密抛光设备是打磨晶圆表面、优化平整度的核心加工设备，保障晶圆后续制程加工质量。晶圆抛光机通过精密研磨工艺完成晶圆表面平整处理，满足半导体生产的精度要求。及时排查并处理设备运行故障，能够有效保障晶圆抛光机的加工精度，稳定产品良率。以下是设备使用过程中的常见问题及对应解决方法。1、晶圆表面抛光不均加工后晶圆局部厚薄不一、平整度偏差较大，多为抛光垫磨损不均、盘面压力失衡导致。需...

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  • 新品推介——LP70多工位精密研磨和抛光系统
    Logitech将推出全新的LP70多工位精密研磨和抛光系统。该系统自动化程度高，具有创新的特性和功能，是需要高规格表面光洁度和平整度应用的多晶圆加工方面的理想解决方案。LP70精密研磨和抛光系统将成为Logitech日益增长的高度自动化和...

    2018-09-17

  • EMA新品问世-离子色谱样品瓶

    2018-04-03

  • EMA元素分析耗材产品介绍
    北京华沛智同科技发展有限公司成立2004年，致力于将国外高品质的元素分析耗材引进到国内，并推荐给国内同位素质谱仪，C、N、O、S、H元素分析仪器使用单位，让中国用户使用到价廉物美，具有的元素分析耗材，目前，北京华沛智同科技发展有限公司是英国...

    2018-03-07

  • 中山大学CMP Tribo和PM6设备安装调试顺利完成
    中山大学电子与信息工程学院光电材料与技术国家重点实验室，为满足专业人才培养需要，2016年底，利用国家专项教学资金购置光电国家重点实验室化学机械平坦化机和研磨抛光机各一套。设备均为目前精密研磨抛光设备领域的英国Logitech公司生产，均为...

    2018-01-25

  • 超过40年历史的LP30 Logitech系统仍在运转
    科罗拉多矿业学院一直从事地质方面研究，他们的地质薄片制备一直使用Logitech的LP30机器，此台LP30机器已帮助他们制备地质薄片超过40年。LP30是精密研磨抛光系统LP50的前身，在LP50面世之前，有约30年时间Logitech停...

    2017-11-23

  • 化学抛光设备有哪些功能？
    化学抛光设备在大多数情况下，电解抛光后的工件表面有更高的明亮度和更高的反射率，电解抛光能使工件表面铬镍化合物富集，在同等条件下工件的耐腐蚀性明显增强。表面更易清洗和保持清洁，减小表面摩擦系数，消除表面应力集中，能较快的消除毛刺。对于机械抛光...

    2017-07-17

  • 气体分析质谱仪的原理是怎样的？
    气体分析质谱仪采用模块化设计，可以提高应用灵活性，托盘冷却能够保持样品完整性，强制风冷色谱柱烘箱能够提供稳定的保持时间，大容量溶剂托盘，可以实现无人看管操作，气体分析质谱仪将带电离子根据其质荷比加以分离，用于纪录各种离子的质量数和丰度，质量...

    2017-03-24

  • 气体分析质谱仪的特点有哪些？
    质谱法是zui流行的分析方法之一，气体分析质谱仪通过在真空下测量分压来分析化学物质的组成。这一分析通常在研发领域和日常生活用品的生产中进行，研究与开发，催化研究、药物开发、新材料开发，监控生产流程，在冶金中、在化学合成中、在半导体生产中、在...

    2016-12-15

  • 飞行时间二次离子质谱仪的功能介绍
    一次离子可能受到样品表面的背散射，也有部分进入样品表面，这部分离子把能量传递给晶格，当入射能量大于晶格对原子的束缚能是，部分原子脱离晶格向表面运动，并且产生原子间的级联碰撞，当这一能量传递到表面，并且大于表面的束缚能时，飞行时间二次离子质谱...

    2016-10-20

  • 精密研磨抛光夹具的作用介绍
    精密研磨抛光夹具在含有磨料的研抛液中紧压在工件被加工表面上作高速旋转运动，工件由工作台带动作纵向往复运动、使得磨具在工件表面形成极其复杂、均匀而又细密的运动轨迹。由于该技术同时具有研磨、抛光和超精加工的特点，因此称为超精研抛技术。在研磨过程...

    2016-10-11

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