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严格遵循晶圆抛光机工艺规范是确保整个抛光过程稳定可控的关键
20264-7

晶圆抛光机是半导体制造中用于实现晶圆表面全局平坦化的关键设备,其操作精度直接影响芯片良率与器件性能。掌握晶圆抛光机正确使用方法,不仅能保障加工质量,还能延长设备寿命、降低运行风险。晶圆抛光机正确使用方法需严格遵循工艺规范与安全规程,确保整个抛光过程稳定可控。1、开机前检查:确认设备电源、气源、冷却水及化学供应系统连接正常;检查抛光垫是否平整无破损,固定盘是否清洁且无异物残留;核实载具和保持环状态良...

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  • 北京华沛智同科技发展有限公司成立2004年,致力于将国外高品质的元素分析耗材引进到国内,并推荐给国内同位素质谱仪,C、N、O、S、H元素分析仪器使用单位,让中国用户使用到价廉物美,具有的元素分析耗材,目前,北京华沛智同科技发展有限公司是英国...

    2018-03-07

  • 中山大学电子与信息工程学院光电材料与技术国家重点实验室,为满足专业人才培养需要,2016年底,利用国家专项教学资金购置光电国家重点实验室化学机械平坦化机和研磨抛光机各一套。设备均为目前精密研磨抛光设备领域的英国Logitech公司生产,均为...

    2018-01-25

  • 科罗拉多矿业学院一直从事地质方面研究,他们的地质薄片制备一直使用Logitech的LP30机器,此台LP30机器已帮助他们制备地质薄片超过40年。LP30是精密研磨抛光系统LP50的前身,在LP50面世之前,有约30年时间Logitech停...

    2017-11-23

  • 化学抛光设备在大多数情况下,电解抛光后的工件表面有更高的明亮度和更高的反射率,电解抛光能使工件表面铬镍化合物富集,在同等条件下工件的耐腐蚀性明显增强。表面更易清洗和保持清洁,减小表面摩擦系数,消除表面应力集中,能较快的消除毛刺。对于机械抛光...

    2017-07-17

  • 气体分析质谱仪采用模块化设计,可以提高应用灵活性,托盘冷却能够保持样品完整性,强制风冷色谱柱烘箱能够提供稳定的保持时间,大容量溶剂托盘,可以实现无人看管操作,气体分析质谱仪将带电离子根据其质荷比加以分离,用于纪录各种离子的质量数和丰度,质量...

    2017-03-24

  • 质谱法是zui流行的分析方法之一,气体分析质谱仪通过在真空下测量分压来分析化学物质的组成。这一分析通常在研发领域和日常生活用品的生产中进行,研究与开发,催化研究、药物开发、新材料开发,监控生产流程,在冶金中、在化学合成中、在半导体生产中、在...

    2016-12-15

  • 一次离子可能受到样品表面的背散射,也有部分进入样品表面,这部分离子把能量传递给晶格,当入射能量大于晶格对原子的束缚能是,部分原子脱离晶格向表面运动,并且产生原子间的级联碰撞,当这一能量传递到表面,并且大于表面的束缚能时,飞行时间二次离子质谱...

    2016-10-20

  • 精密研磨抛光夹具在含有磨料的研抛液中紧压在工件被加工表面上作高速旋转运动,工件由工作台带动作纵向往复运动、使得磨具在工件表面形成极其复杂、均匀而又细密的运动轨迹。由于该技术同时具有研磨、抛光和超精加工的特点,因此称为超精研抛技术。在研磨过程...

    2016-10-11

  • 全自动碳氮同位素质谱仪可对温度,海拔,盐度补偿,自动录入功能可以使使用者调出之前的测量值。它是先使样品中的分子或原子电离,形成各同位素的相似离子,然后在电场、磁场的作用下,使不同质量与电荷之比的离子流分开进行检测。若用照相底板摄像检测。将离...

    2016-09-27

  • 薄片制备系统可以增强生产运行的性,满足市场需求,保持竞争的地位,并获得zui大利润,首产效率对企业是非常重要的,其次整个系统的稳定性和故障的及时发现和排除也非常重要,停产一分钟对烟厂所带来的损失是巨大的。所以该论文中的设计思想和方法都应用了...

    2016-09-19

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