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  • CP4000化学抛光机
    Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......
    01

    更新日期

    2025-12-05
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    浏览量

    5813
  • Logitech CP3000化学抛光设备
    Logitech CP3000化学抛光设备能很好的满足腐蚀抛光溶剂,同样也适用于腐蚀性较弱的Chemlox抛光,如半导体晶片的背抛光。现在的电子器件对于晶片尺寸,表面平整度、平行度及厚度控制都有非常苛刻的控制要求,而CP3000化学抛光机,特别是跟Logitech的晶片处理系统配合使用作为Z后一个步骤时,能*达到这些控制标准。
    01

    更新日期

    2026-04-15
    02

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