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  • 浏览量:2567

    更新时间:2023-04-11

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    Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......
  • 浏览量:7166

    更新时间:2018-10-10

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    Logitech CP3000化学抛光设备能很好的满足腐蚀抛光溶剂,同样也适用于腐蚀性较弱的Chemlox抛光,如半导体晶片的背抛光。现在的电子器件对于晶片尺寸,表面平整度、平行度及厚度控制都有非常苛刻的控制要求,而CP3000化学抛光机,特别是跟Logitech的晶片处理系统配合使用作为Z后一个步骤时,能*达到这些控制标准。
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