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精密研磨抛光系统

  • 浏览次数:8540
  • 更新时间:2018-10-10
产品简介:

Logitech PM5精密研磨抛光系统是带有一个工作站的台式机,适用于科学研究水平的研磨和抛光,能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理。具有加工样品*性高、规格水平高、表面光洁等特点。

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Logitech PM5精密研磨抛光系统是带有一个工作站的台式机适用于科学研究水平的研磨和抛光能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理。

具有加工样品*性高、规格水平高、表面光洁等特点。

精密研磨抛光系统特点:

1、完善的控制系统

在半导体、光电、光学以及地质应用领域Logitech PM5是值得信赖的选择典型的应用包括晶片背减光纤及波导器件制备、激光棒抛光、MEMS等。无论是对何种高质量表面平整度控制的需求,PM5均能给予用户满意的处理效果。

研磨/抛光的所有功能包括盘转速摆臂设定滴料速度均显示在操作控制显示屏通过操纵杆对操作控制显示屏的参数进行设定。

2、自动化功能增强

机器运行内置计时器,在无人看管时可以设定计时器,计时器时间设定范围0-10小时,在处理材料完成机器自动停止(抛光状态下报警不停机),控制系统向操作员发出蜂鸣提醒

为了进一步提高易用性Logitech PM5部分配备真空管道以联通真空装置VS2真空系统单元独立放置,在提供真空系统同时具有过滤防污染的功能。可以看到Logitech的全套备件配置使用为用户带来了足够大的加工灵活性。

Logitech PM5夹具具有在线监测功能可实时显示样品处理的去除量监测精度1um;为适应各种大小尺寸的样品处理,夹具对晶片作用压力可以连续调节,通过增加夹具压力块,压力调节范围zui大可达0.1 - 7Kg;夹具zui大处理样品尺寸4英寸。

3、直观的操作控制系统

快速、高效的研磨/抛光便于拆卸,方便用户在不同的研磨过程之间的快速转换,以及研磨和抛光工艺的变换。这种灵活性使PM5成为实验室空间有限的情况下的首要选择。

Logitech PM5具有耐化学腐蚀的配置,适合在腐蚀性物质环境中使用如砷化镓抛光中常常使用Chemlox抛光液。耐腐蚀的设计保障了系统在酸碱工作环境中运行。

4、精的滴料系统

磨料自动填系统通过一个可调导料槽确保精的控制料液流从料桶滴入研磨盘或抛光盘。滴料的控制设计,具有很高的经济性,特别适合多样化研究使用。

此外可拆卸的料液托盘导出废料使其流入废料桶从而保障设备安全稳定的长时间持续运行同时减轻设备的清理工作。

5、完整的参数控制确保结果*

研磨/抛光的工艺过程中,盘的表面情况会在一定程度上反馈在样品表面,通过控制研磨盘的盘面型从而提高样品平整度通过保持抛光盘的表面状态从而提高样品表面质量。

为获得*结果,设备往复运动的速度和摆幅可以精确的控制样品处理效果,从而提高了结果的高重复性和高*性。

技术规格:

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