高精度抛光系统规范操作全攻略
更新时间：2026-01-30 点击次数：12次
高精度抛光系统广泛应用于光学元件、半导体晶圆、蓝宝石窗口及精密金属件的超光滑表面加工，可实现表面粗糙度Ra≤0.1nm、面形精度λ/20（λ=632.8nm）的效果。其性能发挥高度依赖于设备稳定性、工艺参数匹配与操作规范性。若使用不当，易导致划痕、橘皮纹、边缘塌边或材料去除不均，造成昂贵工件报废。高精度抛光系统遵循稳装、精配、缓抛、勤检的原则，才能实现抛得匀、光得透、控得准。
一、使用前准备
洁净环境：
在ISOClass5（百级）或更高洁净室中操作，避免粉尘颗粒引入划痕；
工件预处理：
确保前道研磨已消除深划痕（通常Ra≤10nm），清洗后无油脂、指纹或颗粒残留；
耗材选型：
根据材料硬度选择抛光垫（聚氨酯、无纺布）与抛光液（SiO2、CeO2胶体，粒径20–100nm）。
二、规范安装与参数设定
工件装夹：
使用真空吸盘或低应力夹具，避免变形；脆性材料（如硅、玻璃）需加缓冲垫；
抛光盘调平：
启动前校准抛光盘平面度（≤5μm），防止局部压力过大；
关键参数设置：
转速：主轴50–300rpm，工件载具30–150rpm（反向旋转提升均匀性）；
压力：0.1–0.5psi（软材料取低值），采用闭环压力传感器实时监控；
抛光液流量：恒流供给（如50–200mL/min），确保充分润滑与散热。
三、运行中监控要点
实时观察：
通过窗口或在线干涉仪监测表面状态，异常雾斑或条纹立即停机；
温度控制：
抛光液温度维持20–25℃，过高会加速化学反应导致蚀坑；
避免干抛：
确认抛光液持续供应，断流自动停机保护。
四、停机与后处理
先停供液，再停转：防止抛光液干涸在表面形成硬质残留；
超纯水冲洗：用18.2MΩ·cm去离子水多角度冲洗，避免水渍；
无尘干燥：吹干或真空干燥，禁止擦拭。
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