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Logitech LP50精密研磨抛光系统
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- 更新时间：2023-04-11
Logitech LP50精密研磨抛光系统为实验室的研发提供一个极精密、多样化的研磨抛光能力。它有三个工作站，通过操纵杆和LCD控制屏来进行操作，其设计能让操作者的操作更快更方便，并能对工艺参数进行全面控制，实现高质量样品的重复生产。 另外，LP50还有一种防次氯酸钠抛光液的机型，可理想的用于需要进行化学机械抛光的工艺过程。
Logitech LP50精密研磨抛光系统为实验室的研发提供一个极精密、多样化的研磨抛光能力。它有三个工作站，研磨盘直径35.6cm(14”) 或37cm (14.6”)，可同时放置三个PP5或PP6夹具进行工作。这样的配置为研发型实验室提供一个很灵活的操作仪器。
Logitech LP50精密研磨抛光系统是通过操纵杆和LCD控制屏来进行操作，其设计能让操作者的操作更快更方便，并能对工艺参数进行全面控制，实现高质量样品的重复生产。
根据每个工艺的要求，可以在工艺设置菜单中进行盘速的设置，设定值为0至70转每分。工艺时间也可以进行调节，可设定到zui多10小时，并且会在上边显示已用去的时间。因此没有必要一直在旁边监视仪器的运转，因为在设定时间后过程就会自动停止.
仪器拥有坚固的聚氨酯外壳，方便清洗，并有盛废液的可移除托盘，将废液导入到废料管中。这一坚固的现代化结构适用于多数严格的研磨抛光环境。另外，还有一种防次氯酸钠抛光液的机型，可理想的用于需要进行化学机械抛光的工艺过程。
· 外形尺寸：
长：662毫米
宽：616毫米
高：635毫米(不包括料桶)
净重：80公斤
盘子尺寸：35厘米和37厘米
· 性能指标：
电压：220伏,50赫兹
电流：10安
盘速：5－70转/分钟
定时器：zui大10小时
摆臂范围：0－100%
