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化学机械研磨抛光设备的优势有哪些?
更新时间:2016-07-28   点击次数:2351次
    化学机械研磨抛光设备了一场新的抛光技术革命,单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深;而化学机械研磨抛光设备在进行研磨抛光加工操作时,只需将被磨、抛材料放于平整的研磨盘上,研磨盘逆时钟转动,修正轮带动工件自转,重力加压或其它方式对工件施压,工件与研磨盘作相对运转磨擦,来达到研磨抛光目的。
 
    测试和开发各种不同的微粒,材料,浓度,氧化剂,抑制剂等的抛光液,沟槽形状,尺寸,弹性,寿命等,测试和发展抛光垫调节装置来优化抛光垫的损耗率,修整,效率等,通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器,测量负载和摩擦力,在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器和放大器,测量接触噪声,使用声波表征的缺陷、划痕,并在加工过程中分层,化学机械研磨抛光设备进行过程中,抛光液对工件表面的化学腐蚀是抛光的*步,其腐蚀作用是抛光液和工件表面接触时,而新暴露出的工件表面,继续被抛光化学腐蚀,这种化学作用与机械作用的不断重复,使工件表面逐渐光滑,化学机械抛光过程综合了化学和机械抛光的优势,单纯的化学抛光,抛光速率较快,单纯机械抛光一致性好,表面平整度高。

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