化学机械研磨抛光设备的优势有哪些？
更新时间：2016-07-28 点击次数：2274次
化学机械研磨抛光设备了一场新的抛光技术革命，单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深；而化学机械研磨抛光设备在进行研磨抛光加工操作时，只需将被磨、抛材料放于平整的研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压或其它方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。
测试和开发各种不同的微粒，材料，浓度，氧化剂，抑制剂等的抛光液，沟槽形状，尺寸，弹性，寿命等，测试和发展抛光垫调节装置来优化抛光垫的损耗率，修整，效率等，通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器，测量负载和摩擦力，在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器和放大器，测量接触噪声，使用声波表征的缺陷、划痕，并在加工过程中分层，化学机械研磨抛光设备进行过程中，抛光液对工件表面的化学腐蚀是抛光的*步,其腐蚀作用是抛光液和工件表面接触时,而新暴露出的工件表面,继续被抛光化学腐蚀，这种化学作用与机械作用的不断重复,使工件表面逐渐光滑,化学机械抛光过程综合了化学和机械抛光的优势，单纯的化学抛光，抛光速率较快，单纯机械抛光一致性好,表面平整度高。
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