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砷化镓晶圆的研磨抛光
更新时间:2018-05-30   点击次数:7496次

    砷化镓(gallium arsenide),化学式 GaAs。黑灰色固体,熔点1238℃。它在600℃以下,能在空气中稳定存在,并且不被非氧化性的酸侵蚀。砷化镓是一种重要的半导体材料,属Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体

    砷化镓晶圆的用途各不相同,主要用于一些二极管、场效应晶体管(FET)和集成电路(IC)等。砷化镓可以制成电阻率比硅、锗高3个数量级以上的半绝缘高阻材料,用来制作集成电路衬底、红外探测器、γ光子探测器等。由于其电子迁移率比硅大5~6倍,故在制作微波器件和高速数字电路方面得到重要应用。用砷化镓制成的半导体器件具有高频、高温、低温性能好、噪声小、抗辐射能力强等优点。此外,砷化镓可以用于制造光通信和控制系统中的发光二极管(LED)。砷化镓是半导体材料中兼具多方面优点的材料优越的性能已使其成为线性数字IC生产中硅材料的替代者。但由于它在高温下分解,要生产理想化学配比的高纯的单晶材料,技术上要求比较高。

典型的砷化镓晶圆抛光条件:

1、划痕硬度(莫恩尺度):3

2、磨料:氧化铝粉

3、负荷(g cm-2):60-80

4、机器:Logitech PM5 / LP50

5、夹具:Logitech PP5 / 6GT

典型的研磨和抛光结果:

1、平整度:5 Fringes

2、表面处理:Ra 3-4nm

3、厚度控制:+/- 2μm至100μm

4、平行度:+/- 2μm

有关使用Logitech系统进行砷化镓处理的更多信息,咨询。

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